鬼像发生器(Ghost Focus Generator)
鬼像分析。如需了解有关鬼像的更多说明，请参阅"鬼像反射(Ghost reflections)"。
反射(Bounces) 选择单次反射或二次反射分析。
起始面(First Surface) 考虑反射的起始面。
终止面(Last Surface) 考虑反射的终止面。
保存文件(Save Files) 如果选中，则将计算鬼像光线追迹所使用的文件进行保存。
仅像面(Image Surface Only) 如果选中，在计算二次反射鬼像时仅显示像面的数据。
鬼像反射膜层(Ghost Reflector Coating) 输入膜层名称（如果有），可应用于模拟鬼像从折射光改变为反射光的表面。例如，如果将1%反射膜层应用于所有光学面，则输入膜层名称"I.99"，结果将生成一个反射1%能量的表面。这样有助于使用偏振透射分析准确计算鬼像总能量（如果需要）。此示例使用理想膜层，如果膜层模型中已适当定义了基面，则真实膜层也可用作鬼像膜层。在使用偏振光线追迹和透射功能查看所生成和保存的鬼像文件时，此功能可计算详细的透过率数据，请参阅"透射(Transmission)"。
详述(Discussion)
对于包含坐标断点面或某些特殊表面类型（如非序列模式组件表面）的系统，此功能可能无法正确工作。使用时仅考虑当前结构。为实现此分析的目的，将关闭无焦模式。
此功能可生成从当前镜头规格数据衍生的镜头文件。生成的文件经过设置可让指定表面反射光线，而非折射光线。然后将新建反射面之前的光学系统部分进行复制，以便光通过这部分光学系统往后传播。此分析旨在检查从任何光学面反射的光线是否会在其它组件上或在焦平面附近形成"鬼像"像面。这些效应对高能激光系统的影响很大，其中聚焦反射会损坏光学系统。同时，鬼像像面也会降低对比度。该功能支持单次以及二次反射。
OpticStudio的非序列模式中的鬼像分析也可以替代该功能。如需了解有关详细信息，请参阅"非序列模式-概述(NSC-OVERVIEW) "。
对于每个鬼像系统，将列出近轴边缘光线高度、近轴光线F/#和轴上实际光线RMS光斑半径，还将指出可能发生内部聚焦的玻璃表面。对于像面，在进行二次反射鬼像分析时，还将提供近轴边缘光线和主光线高度、像面到鬼像的距离以及鬼像系统的有效焦距(EFL)。
生成的镜头文件将存储在名为GHfffsss.ZMX的文件中，并且这些镜头文件可以打开，以供更多分析使用。fff是第一个鬼像表面的编号，而sss是第二个鬼像表面的编号。例如，GH007002.ZMX是一个二次反射鬼像分析文件，依次在表面7和表面2上反射光线。对于单次反射鬼像，只有fff编号是非零值。
虚拟表面（未定义折射率范围的表面）和镜面不作为候选反射面，但唯一例外的是像面。即使像面上没有折射率变化，也将被视为潜在的第一个反射面。
并非所有鬼像反射结构都可以追迹，偶尔会出现有关全内反射面或完全缺光表面的问题。可能需要打开和修改GHfffsss.ZMX文件，才能进行详细分析。
如果第一个反射面在光阑之前，则入瞳位置也将无法得到正确的计算。在开始生成鬼像分析之前，您可以通过以下步骤轻松解决此问题（仅出于分析鬼像的目的）：
- 记录入瞳位置和直径。
- 在表面1上创建虚拟表面。
- 为这个新的虚拟表面提供一个厚度，将其设置为所记录入瞳位置值的负值。
- 使虚拟表面成为光阑面，将入瞳直径设置为所记录的入瞳直径。
- 仅对有限共轭有效，增加物面厚度，使增加量等于虚拟表面的厚度。
这些步骤将在物空间中为您提供一个真实的入瞳，并且在光阑面之前的表面上反射光时，将正确追迹光线。对于一般复杂的系统，鬼像分析已非常复杂，因此在解释此分析结果时需格外注意。
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