散射模型(Scatter Models)

依据概率分布函数定义散射模型。当OpticStudio散射一条光线时，将会选定一个新的传播方向。该方向通过使用概率函数以及一个或多个随机数来确定。所产生的效果是：当有大量光线追迹时，所产生的散射光线分布将接近于概率分布函数。下图定义了用于描述散射模型的向量。



在上图中：

  • 法线向量N定义了表面在光线与表面交点处的方向

  • 入射光线向量为I，

  • 反射光线向量为R，

  • 散射光线向量为S。

N、I、R和S均为单位向量。

反射光线向量可以是反射或折射光线的向量。为了简洁起见，图中所示光线为反射光线向量。

反射和散射光线向量在表面上的投影分别表示为β0和β。这些投影不是单位向量，向量β0的幅度大小为sinθr，向量β的幅度大小为sinθS，其中θr和θS分别是反射光线向量和散射光线向量与法线向量之间的夹角。

散射向量(β -β0)表示为X，并且如果|X|为0，散射和反射光线向量将一致。如何确定X要取决于所选择的散射模型。

向量β0和β的最大幅度是1.0。但是由于这些向量一般不能指向同一个方向，因此向量X的最大幅度可为2.0。向量X必须在投影平面的单位圆内得到向量β。

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